真空烘箱采用了半导体制冷其热泵运转能效比高，且其特性也属于电量转化器材，通过输入电流的控制，可完成高精度的温度控制，再加上温度检测和控制手段，很简单完成遥控、程控、计算机控制.便于组成自动控制系统。

　　真空烘箱如都采用先加热真空室壁面、再由壁面向工件进行辐射加热的方法。在这种方法下，控温外表的温度传感器能够安置在真空室外壁。传感器能够一起承受对流、传导、和辐射热。

　　而处于真空室里的玻璃棒温度计只能承受辐射热，更由于玻璃棒黑度不可能到达1，适当一部分辐射热被折射了，因此玻璃棒温度计反映的温度值就必定低于外表的温度读数。

　　一般来说，200℃工况时外表的温度读数与玻璃棒温度计的读数两者相差30℃以内是正常的。假如控温外表的温度传感器安置在真空室内，玻璃棒温度计的温度值与外表的温度读数之间的差异能够适当缩小，但不可能消除，而真空室的密封可靠性增加了一个可能不可靠环节。

　　真空烘箱假如按先升温加热再抽真空的程序操作，加热的空气被真空泵抽出去的时候，热量必定会被带到真空泵上去，从而导致真空泵温升过高，有可能使真空泵功率下降。

　　正确的使用方法应该先抽真空再升温加热。待到达了额外温度后如发现真空度有所下降时再适当加抽一下。这样做对于延长设备的使用寿命是有利的。

　　真空烘箱性能稳定，温湿度控制精度高，修理、维护成本低，节能效果显着，性能价格比显着优于同类产品，半导体制冷片的温差范围大，适用范围广。